中国特許庁（CNIPA）は2012年から10年間の中国知的財産権に関するデータを発表した。その中、知的財産権保護に対する社会満足度は2012年の63.69点から 2021年の80.61点に約17点向上した。特許出願の平均審査期間は2022年9月までに16.5ヶ月に短縮され、商標登録出願の平均審査期間は4ヶ月に安定している。現在、中国における特許・商標の審査官の人数は合計で2万人近くいる。中国で知的財産権の人材は70万人余りに達しており、弁理士の資格取得者数は6万人に達している。

世界知的財産権機関（WIPO）のグローバル・イノベーション・インデックス(GII) の2022年版の報告書によると、中国は G II ランキングで2012年の34位から2022 年の11位に登り、10年連続で着実に上昇し、中所得経済圏のトップとなった。同報告書では、科学技術開発が集中している地域について「科学技術クラスター」としてランキングを公表した。中国は深セン-香港-広州、北京の2席を独占し、技術革新がさらに活発になっている。

ソース：http://sn.people.com.cn/BIG5/n2/2022/1010/ c186331-40154946.html