2015년 / 2016년 / 2017년의 중국 출원 건수는 다음과 같습니다.

특허: 미국 37,126 / 35,748 / 36,980, 일본 40,003 / 39,118 / 40,908, 한국 12,843 / 13,180 / 13,695. 2017년 증가율은 각각 약 3%, 5%, 4%입니다.

실용신안: 미국 2,088 / 2,055 / 1,876, 일본 2,691 / 2,127 / 2,070, 한국 665 / 806 / 809. 2017년 미국과 일본 출원은 각각 약 9%, 3% 감소했습니다.

디자인: 미국 3,889 / 3,703 / 4,066, 일본 3,788 / 3,789 / 3,756, 한국 2,779 / 2,952 / 2,592. 2017년 미국 출원은 약 10% 증가하고 한국 출원은 약 12% 감소했습니다.

그림 1:한미일 출원인의 중국 전리출원 통계 데이터(2015년~2017년)
그림 1:한미일 출원인의 중국 전리출원 통계 데이터(2015년~2017년)
그림 2:한미일 출원인의 중국 전리출원 통계 데이터(2015년~2017년)
그림 2:한미일 출원인의 중국 전리출원 통계 데이터(2015년~2017년)
그림 3:한미일 출원인의 중국 전리출원 통계 데이터(2015년~2017년)
그림 3:한미일 출원인의 중국 전리출원 통계 데이터(2015년~2017년)

출처: http://www.sipo.gov.cn/tjxx/index.htm